製品の特長

・超高速応答
従来比※5で約8倍の速さとなる、0.1秒でガス流量コントロールを立ち上げる超高速応答性能を実現。
製造プロセスの時間削減つながり、生産性向上へ貢献

・制御範囲のワイドレンジ化
フルスケール流量※6に対して0.1%からの制御を実現し、1台で大流量と小流量域双方の精密制御を実現。
品質向上へ貢献するとともに、ガス供給ラインを効率化したことで、より多くの種類の材料ガスを使用することができ、半導体製造装置の性能改善に寄与

・応答波形の誤差低減
新開発のガス制御技術により、マスフローコントローラーごとにおける応答波形※7の誤差を従来比で約13倍※5改善。半導体製造装置間の機差※8低減へつながり、歩留まり向上へ貢献

※5　堀場エステック従来製品との比較
※6　特定の時間あたりに流すことのできるガスの最大値
※7　動作が立ち上がってから設定した流量値に至るまでの個体差を示したデータ
※8　構成部品の個体差などによって機械ごとに生じる、ごくわずかな性能誤差